9 ZEISS maszyny pomiarowe maszyny używane

ZEISS MC 850 X-OŚ OBRYSOWA: 850 MM OSUW OSI Y: 1200 MM Suwa z osi z osi z: 600 MM WAGA APPROSS. 3800 KG WYMIARY (W X H X D): 1,6 x 1,56 x 2,95 MM

OSIE RACING X/Y/Z 900/900/700 MM DOKŁADNOŚĆ POMIARU 2,2 + L/300 ? M MASA OBRABIANEGO PRZEDMIOTU (MAKS.) 1200 KG SYSTEM STEROWANIA VAST MEASUREMENTING HEAD POINT/POINT CONTROL MODE CIĄGŁE Skanowanie WYMIARY MASZYNY SZEROKOŚĆ 1640 MM DŁUGOŚĆ 1740 MM WYSOKOŚĆ 2700 MM WAGA (OK.) 2000 KG

Maszyna pomiarowa Zeiss Pro T advance 16/21

Maszyna pomiarowa Zeiss Prismo 7 BJ 1997 generallueb. 2024

Maszyna pomiarowa Zeiss WMM850 BJ 1988 generalueb. 2008

Sprzedam maszynę pomiarową Zeiss UPMC 850 Carat • Przesuwy: X = 750mm; Y = 850mm; Z = 600mm • Projektowanie portali • Magazynek przyciskowy z 8 slotami • Kulka pomiarowa • Zestaw sond • Stacja robocza HP z monitorem

Maszyna pomiarowa Zeiss UMESS 850

Maszyna miernicza Zeiss Vista BJ 2000 W tym paleta/okładka UPC Erowa na Vista

Pomiar zakresu szerokości/długości/wysokości 1600/1800/1000 mm Wymiary: Szerokość/ Długość/ Wysokość 2450/ 2940/ 3800 mm Maksymalna masa obrabianego elementu 3500 kg Masa maszyny pomiarowej 8500 kg Prędkość pełzania 0 - 5 mm/s Operacja ustawienia 0 - 70 mm/s Operacja pomiaru szeregowego Maksymalna prędkość osi 300 mm/s Wektor maks. 425 mm/s Wersja oprogramowania Calybso 2023/ Service Pack 2 --- wersja 7.6.08 Różne sondy Przetwornik

Współrzędnościowa maszyna pomiarowa CNC Zeiss Prismo MP5 Rok produkcji: 8/1999 Ostatnia kalibracja 9/2023 Zakres pomiarowy: X= 900 mm, Y= 1200 mm, Z= 700 mm Cechy urządzenia, wyposażenie: Sterowanie C98 z panelem sterowania Czujniki RDS z RST Zmieniacz przycisków Magazynek 5-krotny System pomiarowy RST 5x Dpp7Jl powiedział: Akcesoria do przycisków Kulka pomiarowa Kalkulator z monitorem Oprogramowanie Calypso Basic 5.4 System załadunku Inne akcesoria Możliwa kompletna modernizacja C99 i Calypso

długość: 1600 mmszerokość: 1400 mmwaga maszyny ok.: 2,1 t Dane do tej reklamy zostały stworzone za pomocą ModulMWS – rozwiązania programowego LogoTech oHG.

długość: 1300 mmszerokość: 1100 mm, waga maszyny ok: 1,5 tDane do tej reklamy zostały stworzone za pomocą ModulMWS – rozwiązania programowego LogoTech oHG.

1 x ZEISS-Stiefelmayer Duplex Measuring System Bauj. 11/1995 1 x Stiefelmayer Duplex Measuring System Bauj. 1985 1 x system pomiarowy Stiefelmayer zbudowany w 1987 roku 1 x system pomiarowy Stiefelmayer zbudowany w 1987 roku

x-skok: 550 mm y-skok: 1200 mm z-skok: 450 mm kontrola: 85er 8bit pośrednie zapotrzebowanie mocy: kW waga maszyny ca.: t wymiary maszyny ca.: m

x-skok: 550 mm y-skok: 1200 mm z-skok: 450 mm kontrola: 85er 8bit pośrednie zapotrzebowanie mocy: kW waga maszyny ca.: t wymiary maszyny ca.: m

Zakres pomiarowy X,Y,Z 1200,1800,1000 mm Oprogramowanie calypso Głowica pomiarowa 5 osiowa Vast XXT

Software Zeiss Calypso Głowica pomiarowa RDS VAST XXT Zakres pomiarowy: 1000, 1600, 600 mm Maksymalny rozmiar obrabianego elementu: 1220, 1935, 620 mm

Key data: 500 mm, 500 mm, 500 mm

System był rzadko używany (polecenie pominięte) CMM DuraMax 5/5/5 ZEISS CNC Coordinate Measure Machine (CMM) w projektowaniu boom Maksymalne dopuszczalne odchylenie pomiaru długości (MPE) zgodnie z normą ISO 10360-2:2009 Djwvuszb U ma Nu Iekn - MPE_E0 (3D) = (2,4 + L/300) μm dla 18 - 22 C - MPE_E0 (3D) = (2,7 + L/250) μm dla 18 - 26 C - MPE_E0 (3D) = (2,9 + L/200) μm dla 18 - 30 °C Maksymalne dopuszczalne odchylenie sondowania sondowania (MPE) zgodnie z ISO 10360-4:2000 w ramach maksymalnego dopuszczalnego czasu testowego skanowania (MPT) MPE_THP = 2,9 μm w granicach MPT_tau = 55 s odchylenie pojedynczej sondy Kształt zgodnie z ISO 10360-5:2010 MPE_PFTU = odchylenie pomiaru kształtu o 2,4 μm zgodnie z ISO 12181:2011 (VDI/VDE 2617 Część 2.2) MPE_RONt (MZCI) = 2,4 μm

Stojak z płytą stalową z kontrolą C99 Zakresy pomiarowe: x=5000 mm, y=2600 mm, z=2100 mm Płyta pomiarowa: 6000 mm x 3000 mm Obrotowa głowica obrotowa RDS dla TP Panel sterowania Dynalog Nadjeżopa na stojaku, łącznik opto-złącza, ekran, klawiatura, mysz Aktywne tłumienie drgań Bez oprogramowania i sprzętu. Zastrzegamy sobie prawo do wprowadzania zmian i błędów w danych technicznych, a także do dokonywania sprzedaży tymczasowej. Cena plus transport i instalacja.

Duży mikroskop inspekcyjny Zeiss LM 100 Mikroskop znalazł zastosowanie w przemyśle elektronicznym, w produkcji ekranów dotykowych

Urządzenie do napromieniania Zeiss Intrabeam System, akcelerator. Stosowany w terapii okulistycznej, napromienianiu nowotworów. Z urządzeniem dozującym PTW. W komplecie z instrukcją obsługi, próbkami itp.

Urządzenie do napromieniania Zeiss Intrabeam System, akcelerator. Stosowany w terapii okulistycznej, napromienianiu nowotworów. Z urządzeniem dozującym PTW. W komplecie z instrukcją obsługi, próbkami itp.

Urządzenie do napromieniania Zeiss Intrabeam System, akcelerator. Stosowany w terapii okulistycznej, napromienianiu nowotworów. Z urządzeniem dozującym PTW. W komplecie z instrukcją obsługi, próbkami itp.

Urządzenie do napromieniania Zeiss Intrabeam System, akcelerator. Stosowany w terapii okulistycznej, napromienianiu nowotworów. Z urządzeniem dozującym PTW. W komplecie z instrukcją obsługi, próbkami itp.

Urządzenie do napromieniania Zeiss Intrabeam System, akcelerator. Stosowany w terapii okulistycznej, napromienianiu nowotworów. Z urządzeniem dozującym PTW. W komplecie z instrukcją obsługi, próbkami itp.